Процессы PECVD. Нитрид кремния (включая антиотражающие покрытия для солнечных элементов) Оксид кремния. Оксинитрид кремния. Особенности. …
PECVD PLATFORMS. PLASMABOX®,。, …
PECVD, или плазменное химическое осаждение из паровой фазы, - важнейшая технология в производстве солнечных батарей, особенно при осаждении тонких …
Метод PECVD может быть использован для получения различных пленок путем изменения параметров процесса, например, расхода реактивного …
(PECVD),,。. …
PECVD помогает получить тонкую пленку при низкой рабочей температуре (менее 350 °C) с равномерным покрытием различной формы, хорошим ступенчатостью, …
Плазмохимическое осаждение из паровой фазы (PECVD) позволяет тонким пленкам (покрытиям) подвергаться процессу напыления при более низких …
Аморфный кремний тонкопленочных солнечных элементов процесс производства прост, низкая температура подложки, легко применять процесс …
Процесс PECVD широко используется в полупроводниковой промышленности для производства различных тонких пленок, включая микроэлектронные компоненты, …
(PECVD),、。, …